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      技术参数

      刻蚀物 硅、氮化物刻蚀 二氧化硅刻蚀 金属/合金刻蚀
      晶片尺寸 3-6″ 3-6″ 6-8″
      工艺控制 单片工艺,闭环控制 单片工艺,闭环控制 单片工艺,闭环控制
      优势 支持客户定制 支持客户定制 支持客户定制
      3d字谜
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